某半导体技术制做中小企业因晶圆拆洗繁琐流程形成含氨废水办理工艺，需水量200吨/天。废水办理工艺中除氯离子外还富含氟化物和进样器天价属，办理麻烦大。是时间排放标淮标淮需要氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理方法有效成分及渠道 晶圆拆洗生产废水（主要来源地）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀环节废水处理：含少量铜、镍等天价属，pH值跌涨大 CMP抛光生产废水：含硅颗粒剂及氯离子 正确处理加工步骤流程 按照"化学上沉定+膜拆分+折点氯化"结合加工制作工艺 ： 预外理 ：添加CaCl2除氟，控住pH在7.5-8. 反渗透装置系统软件 ：弄掉0.01μm及以上颗粒状物 反固化浓缩咖啡 ：将挥发酚浓缩造成至1000mg/L超过 折点氯化 ：准确设定氯污泥脱水量，将氧化还原电位转为为离氮气 阳离子对换 ：确保血本属合格 不可能疗效 化学需氧量稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属占比不超过探测限 水循环率达75% 生活污水形成量削减40%