该晶圆手工制造商坐落于华中一个国家，最主要的生育8屏幕尺寸半导体技术晶圆，平均焦化废水废气量约800吨。因此生育方式中食用许多氢佛酸做晶圆蚀刻，导至焦化废水底氟化物渗透压更是高达200-300mg/L，远超一个国家废气规范标准（10mg/L如下）。 废水处理方法组分及源 废水处理工艺主要是来六个过程： 晶圆蚀刻多种工序 ：含高渗透压氟化物（HF）、氯化铵及多量天价属 电学机械设备增加光泽（CMP）化工废水 ：含纳米技术级硅科粒、充分络合剂 仪器的清洗废渣 ：含异丙醇、高锰酸盐指数等有机的物 解决加工过程程序流程 使用"普通机械沉定+混疑沉定+广度过滤器"三级分销治疗程序： 四级处置 ：加药氯化钙和氢腐蚀钙，生成氟化钙积淀，氟化物除去率达85% 特殊外理 ：增添PAC（配位聚氯化铝）和PAM（聚乙烯塑料酰胺），除去电解质溶液态污染问题物 一级净化处理 ：实现多有机溶剂滤过器和活性氧炭气体吸附，喷水氟化物浓度值保持稳定在8mg/L接下来 关键所在机械比如：pH一键调理软件系统、斜管结晶池、板框压滤设备（污泥处理甩干）。 决定性治疗效果 项目流程运转3年检测数据统计显现： 氟化物平衡渗透压：7.2mg/L（不超过地区的标准） COD取除率：92% 生活污水水分含量率：≤65% 年收售氟化钙副品牌约150吨，完成市场化再生利用