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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

工作情况 该半导体器件制作业该品牌是在华南中南部,总注资已超200万元,关键生产销售12厘米晶圆和专业芯片封装货品。该品牌日影响物废用水量约5000吨,构成许多加工制作工艺 废气解决工艺,解决的难度大。品牌让废气解决工艺解决后可达到《微电子轻工业水影响物影响物标准的》(GB 39731-2020)越来越影响物最大限度,组成部分回收率不远低于60%。 化工废水含量及主要来源 含氟废气:常见来源于晶圆蚀刻、的洗涤工艺技术,氟阴离子浓硫酸浓度超过200-500mg/L,pH值波动性大 有机化学的废液:光刻、成像、去胶等制作工序发生,COD浓度值300-800mg/L,具有刺激性异丙醇、二甲苯等有机化学的乙酸丁酯 含铜废水处理:电渡、电化学机戒抛光剂(CMP)繁琐流程带来,铜化合物质量浓度50-150mg/L 碱酸焦化废水:仪器家电清洗、烟气洗條等阶段行成,pH值在2-12两者变化 粉磨焦化废水:CMP工步生成,含微米级二阳极氧化硅粒状 进行处理生产工艺步骤流程 选取"总类抽取+分质加工处理+厚度油烟净化器"的三人组合技艺: 含氟生产废水净化处理线 : 多级化学式水解:先添加氯化钙调试pH至6-7,后加入PAC和PAM水解酸化池水解 物理吸附性腐蚀铝物理吸附:以保证氟铁离子含量降低5mg/L下面的 飞灰经板框压滤后下令让专门加工 无机电镀废水处里线 : 微钛电极抛光预治理:铁碳微钛电极抛光挥发大氧分子可挥发物 UASB厌氧现象器现象器:HRT=24h,COD去掉率>60% MBR膜生物工程体现器:采用了PVDF中空夹胶玻璃人造纤维膜,通量15LMH 含铜废渣清理线 : 化学物质发展:加药系统NaOH调节器pH至9-10,生成Cu(OH)2发展 阴化合物交互:多级硅胶粘合剂交互切实保障铜阴化合物<0.3mg/L 电解设备设备的的回收利用利用:一部分生产废水经电解设备设备的的回收利用利用黑色金属铜 终合操作模式 : 控制池:均等化水质标准排水量,设曝气池搅伴 混凝土水解:加药系统挽回斜板沉淀池剂除掉固体化学物质 臭氧杀菌催化剂的作用防氧化:溶解难溶解生物碳物 反浸入模式:脱盐率>98%,产水中水回用于的生产线设备 污水清理控制系统 : 污泥干化精炼池:固体颗粒含量从1%加快至3% 离心法缺水:假如PAM调里,泥饼水分含量率<75% 高湿干化:个部分污泥干化干化至含水量率30%左右 结果英文视觉效果 項目完工定时运行后,基本的指标稳固合格:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜化合物<0.3mg/L、pH 6-9。回收水水源满足GB/T 19923-2005重工业加水基准,回收率65%,今年省下新鲜松茸水运用量约140万吨。污水会产生量减低40%,具有很大的风险垃圾治理人工成本影响35%。系统软件定时化方面高,再线监测站数据统计与环保节能部实时监控接入。

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