半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
创业项目环境
此投资人项目座落长三边形各地某国家的级半导体芯片第三产业校园内,企业公司重要生产加工8寸大和12寸大晶圆,曰产量完成2万片。逐渐产能的提升,和原有的焦化废水处里操作系统已没有办法能够满足绿色让,亟需上升升级改造。投资人项目总投资人约1200万元,开发处里性能为300吨/日,于202一年建设成投用。
污水营养成分及原因
该企业的晶圆片区程序形成的废渣关键涉及如下材质:
打磨全过程中适用的打磨液残余物物,重要含量为二腐蚀硅顆粒、外表面活力剂和无机获取剂
晶圆外表清洁工作导致的含氟电镀废水,氟化合物浓硫酸浓度在80-120mg/L
少许高价属铁离子如铜、镍等,来自于切平台损耗
充分液体杂质,是指异丙醇、异丙醇等
pH值浮动很高,大部分在4-10内
补救新工艺环节
针对于废污水性质,设置主要采用"物理化学预处里+生物化处里+淬硬层处里"的三人组合施工工艺:
调池
:动态平衡土质的水量,布置pH优酷云检测和半自动加量设备
混疑发展
:添加PAC和PAM,消除浮窗物和悬浊液物料
气浮單元
:进行溶气气浮技艺进三步彻底清除渺小粉末和的部分有机化学物
血生化正确处理
:主要采用MBR膜生物工程的催化反应器,废水浓度值长期保持在8000-10000mg/L
深浅办理
:活性酶炭离心分离+反渗透装置法艺,保证水流达到
生活污水加工处理
:板框刮刀离心机缺水,废水含水量率调至60%下述
进行处理成果
系统软件平衡运转后,有水出环境质量齐全实现《电子器件制造业水弄脏物排出准则》(GB39731-2020)特别排出标准值规范要求:
COD<30mg/L
氟化合物<5mg/L
悬浮按钮物<10mg/L
高价属每一项指标英文均最低卫生防护距离
内容每季度可限制环保问题物减排量约COD 32吨、氟化物8.5吨,造纸废水处理水率提升75%及以上,为公司节约了电费拨出约1二十万元/年。