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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

大型项目背景图 该半导体集成电路芯片研发品牌地处豫东地域,主要的生育集成型电路原理集成电路芯片,日排污含氟污水约800吨。可能地区节能环保规范标准加快,原本有加工的设施没法达到氟化物排污溶液浓度压低5mg/L的新规定要求,品牌投资的1700万元新投入靠谱含氟污水加工控制系统。 废污水部分及特征 废水处理注意由来于集成块生产方式中的刻蚀工艺程序和清洁工艺程序,注意感染物涉及: 氟化合物有机废气浓度:300-800mg/L pH值:2- 具有刺激性一少部分硅酸盐、磷酸二氢钠 微量分析巨资属如铜、镍等 正确处理施工工艺程序流程 运用"预加工+耐腐蚀乳浊液+广度加工"结合的工艺: 调整池:均等化水质检测用水量,设为pH在线平台探测 考试内容一级症状池:污泥脱水氢阳极氧化钙,调控pH至7-8,形成了氟化钙沉垫 两级积累物池:积累物剥离氟化钙淤泥 三级反响池:加药系统氯化钙和聚合物氯化铝,进的一步出掉残存氟正离子 中级奠定池:三次奠定分开 砂滤系统性:避开悬停物 亲水性炭吸附剂:的还原生物碳物和氢化物发生器天价属 活性污泥干化补救系统性:板框压滤脱水等,活性污泥干化水分含量率降落到60%这 最后感觉 系统软件进行平稳后,出水量水体: 氟阴离子氧化还原电位:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 天价属含磷量均高出检测出限 几乎无法《自动化工农业水弄脏物排卸规格》(GB39731-2020)规定要求,每次降低氟化物排卸约180吨。

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